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工业上应用的CVD法保护涂层
引用本文:肖顺枢.工业上应用的CVD法保护涂层[J].热处理技术与装备,1984(5).
作者姓名:肖顺枢
作者单位:上海机械制造工艺研究所
摘    要:一、引言: 用化学气相沉积(CVD)法在硬质合金和钢的基体表面上形成由碳化物、氮化物和氧化物所构成的高耐磨、抗腐蚀的涂层,通常是用H_2、N_2、CO_2以及金属氯化物、有机化合物的蒸汽,在1000℃左右的高温条件下,进行化学气相反应(高温CVD)的结果。最近又开发了700~900℃温度下生产碳氮化钛涂层的工艺,即中温CVD(MT CVD)工艺。在实际工业生产中,涂层工艺是用专用设备实现的。它主要包括一个热壁反应器,并带有必要的辅助设备,以保证有效地控制沉积温度、各种原料气的供应量及沉积室气体压力等气相反应参数。

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