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塑封铜引线集成电路开封方法
引用本文:龚国虎,梁栋程,梁 倩.塑封铜引线集成电路开封方法[J].太赫兹科学与电子信息学报,2015,13(6):1005-1008.
作者姓名:龚国虎  梁栋程  梁 倩
作者单位:Metrology and Testing Center,China Academy of Engineering Physics,Mianyang Sichuan 621999,China,Metrology and Testing Center,China Academy of Engineering Physics,Mianyang Sichuan 621999,China and Metrology and Testing Center,China Academy of Engineering Physics,Mianyang Sichuan 621999,China
摘    要:在集成电路高速发展的时代,内引线为铜的集成电路因为低廉的价格和性能方面的优势,将越来越多地被制造和改进,破坏性物理分析(DPA)中也将会遇到大量的塑封铜引线集成电路,这类器件开封容易引起铜引线、键合点的腐蚀等问题。对这类器件研究后的开封方法是:激光开封后一定比例的混酸腐蚀能使铜线和键合点完好保留,芯片表面无塑封料残留。本文提供了一种对塑封铜引线集成电路进行开封的可靠方法。

关 键 词:铜线  集成电路  开封  破坏性物理分析
收稿时间:2014/10/15 0:00:00
修稿时间:2014/12/11 0:00:00

Decapsulation method with plastic encapsulated integrated circuit of copper wire
GONG Guohu,LIANG Dongcheng and LIANG Qian.Decapsulation method with plastic encapsulated integrated circuit of copper wire[J].Journal of Terahertz Science and Electronic Information Technology,2015,13(6):1005-1008.
Authors:GONG Guohu  LIANG Dongcheng and LIANG Qian
Abstract:
Keywords:
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