| Al2O3陶瓷片上沉积钛膜的研究 |
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| 引用本文： | 骆瑞雪,李争显.Al2O3陶瓷片上沉积钛膜的研究[J].稀有金属快报,2005,24(7):25-27. |
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| 作者姓名： | 骆瑞雪 李争显 |
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| 作者单位： | 西北有色金属研究院,陕西,西安,710016 |
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| 摘 要： | 采用电弧离子镀方法在Al2O3陶瓷片上沉积Ti金属膜，并对成膜厚度的影响因素进行分析，沉积Ti金属膜合适的工艺参数为：电流70A，时间20min～30min，工件转速2r／min～4r/min。
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| 关 键 词： | 钛膜 Al2O3 陶瓷 离子镀 金属化 |
| 文章编号： | 1008-5939(2005)07-025-03 |
| 修稿时间： | 2005年6月8日 |
Investigation of Titanium Film Deposited by Arc Ion Processing on Al2O3 Ceramics |
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| Luo Ruixue,LI Zhengxian.Investigation of Titanium Film Deposited by Arc Ion Processing on Al2O3 Ceramics[J].Rare Metals Letters,2005,24(7):25-27. |
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| Authors: | Luo Ruixue LI Zhengxian |
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| Abstract: | Titanium metal film is deposited on A12O3 ceramics using arc ion processing, the factor of affecting film thickness is analyzed. Appropriate process parameters depositing titanium metal film are:electric current 70 A,time 20 min-30 min,rotating rate of workpiece 2 r/min-4 r/min. |
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| Keywords: | A12O3 ceramics titanium film ion plating metallization |
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