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硅的直接热生长氮化膜及其应用
引用本文:
朱长纯.硅的直接热生长氮化膜及其应用[J].稀有金属,1987(2).
作者姓名:
朱长纯
作者单位:
西安交通大学
摘 要:
本文阐述了超薄热生长氮化硅膜的工艺和在一些器件中作为半绝缘的隧道薄膜的优点,研究了氨气中硅直接热氮化膜的性质,并用该氮化膜制成了金属-半绝缘膜-N-P~+结构的快速开关。
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