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| 狭缝涂布理论建模与数值模拟 | |
| 作者姓名： | 徐方超 李增辉 兰红波 |
| 作者单位： | 青岛理工大学纳米制造与光电子实验室,青岛,266033 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
| 摘 要： | 狭缝涂布是一种精密涂布技术,目前已经被广泛地应用在柔性电子、功能薄膜、平板显示器、微纳制造、印刷等众多领域.通过对狭缝涂布系统稳定流动后的涂布层进行纳维-斯托克斯方程理论分析,建立了上游和下游的流速、流量关系的理论模型,揭示了涂布层的流动机理,并通过对涂布过程的数值模拟,得到涂布开始后不同时刻流体的流动界面,阐述了基底运动速度对涂布层质量的影响规律.该研究为进一步提高狭缝涂布质量和效率,优化狭缝涂布的生产工艺奠定了理论基础. |
| 关 键 词： | 狭缝涂布 纳维斯托克斯方程 涂布过程 FLUENT |
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