| 飞秒激光沉积ZnO/Si大面积均匀薄膜及其特性 |
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| 引用本文： | 杨义发,江超.飞秒激光沉积ZnO/Si大面积均匀薄膜及其特性[J].光电子．激光,2012(12):2349-2354. |
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| 作者姓名： | 杨义发 江超 |
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| 作者单位： | 湖北师范学院物理与电子科学学院;湖北师范学院物理与电子科学学院 |
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| 基金项目： | 湖北省教育厅(B20112501)资助项目 |
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| 摘 要： | 利用飞秒脉冲激光沉积(PLD)法在Si(100)基片上制备大面积均匀的ZnO薄膜,通过激光束、靶材及衬底的运动使得所制备的薄膜均匀性面积大小不受限制。X射线衍射(XRD)结果显示,所制备的薄膜具有典型的六方纤锌矿结构,并沿(002)方向高度择优取向生长。场扫描电子显微镜(FESEM)显示,薄膜是沿垂直于衬底方向生长的六方柱状纳米晶,且膜厚均匀。紫外-可见光谱透射率显示,所制备的薄膜在380nm附近有一陡峭的吸收边,在可见光波段具有90%以上的透过率。光致发光(PL)光谱显示,薄膜在377nm处有一强而窄的紫外发射峰。实验结果表明,所制备的薄膜具有良好的结构及光学性能。
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| 关 键 词： | 脉冲激光沉积(PLD) ZnO 扫描半径 光致发光(PL) |
Properties of femtosecond laser deposited ZnO large-area uniform films on Si substrates |
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| YANG Yi-fa.Properties of femtosecond laser deposited ZnO large-area uniform films on Si substrates[J].Journal of Optoelectronics·laser,2012(12):2349-2354. |
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| Authors: | YANG Yi-fa |
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| Affiliation: | College of Physics and Electronics Science,Hubei Normal University,Huangshi 435002,China;College of Physics and Electronics Science,Hubei Normal University,Huangshi 435002,China |
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