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PCVD法沉积Ti(CN)涂层及其抗氧化性研究
引用本文:潘应君,陈淑花,吴新杰,李平生,张细菊.PCVD法沉积Ti(CN)涂层及其抗氧化性研究[J].武汉理工大学学报,2004,26(4):12-14.
作者姓名:潘应君  陈淑花  吴新杰  李平生  张细菊
作者单位:武汉科技大学材料与冶金学院,武汉,430081
基金项目:湖北省教育厅资助项目 (2 0 0 2 A 0 10 0 8)
摘    要:应用PCVD技术,以金属有机物TPT作钛源在H13模具钢表面沉积Ti(CN)涂层,研究了不同工艺参数对涂层组织和性能的影响,并对涂层的抗氧化性进行了试验。结果表明,采用适当的沉积温度、压力及氮气流量,可以在H13钢表面得到以Ti(CN)为主的致密涂层,在沉积温度500℃时达到最高硬度HV1760,涂层在600℃以下具有良好的抗氧化性。

关 键 词:PCVD  Ti(CN)涂层  抗氧化性
文章编号:1671-4431(2004)04-0012-03
修稿时间:2003年12月3日

Study of Ti(CN) Layer and Anti-oxidation Property Deposited by PCVD
PAN Ying-jun,CHEN Shu-hua,WU Xin-jie,LI Ping-sheng,ZHANG Xi-ju.Study of Ti(CN) Layer and Anti-oxidation Property Deposited by PCVD[J].Journal of Wuhan University of Technology,2004,26(4):12-14.
Authors:PAN Ying-jun  CHEN Shu-hua  WU Xin-jie  LI Ping-sheng  ZHANG Xi-ju
Abstract:
Keywords:PCVD  Ti(CN) layer  anti-oxidation property
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