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电容薄膜规的发展和现状
引用本文:董长昆,李旺奎.电容薄膜规的发展和现状[J].真空,1995(1):41-48.
作者姓名:董长昆  李旺奎
作者单位:兰州物理研究所
摘    要:本文介绍了电容薄膜规的四个发展阶段和现状.综述了各阶段的制造、性能特点。对电容规的测量原理、校准技术、特别是主要性能进行了详细讨论。并就电容规的实际使用给出了可供借鉴的操作模式。

关 键 词:真空测量,真空计,薄膜真空计,述评
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