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| 真空开关关键技术及发展趋势的分析 | |
| 引用本文： | 董华军,吴延清,向川,廖敏夫.真空开关关键技术及发展趋势的分析[J].电气应用,2008,27(13). |
| 作者姓名： | 董华军 吴延清 向川 廖敏夫 |
| 作者单位： | 大连理工大学电气工程及应用电子技术系 |
| 摘 要： | 对真空开关的操动机构进行了论述,对影响真空灭弧室绝缘性能和灭弧能力的触头材料、触头结构、波纹管及屏蔽罩四大因素进行了具体分析,并对真空开关的发展进行了展望。 |
| 关 键 词： | 真空开关 操动机构 真空灭弧室 |
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