首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

甲醇合成系统蜡质垢的化学清洗
引用本文:门勇,刘新.甲醇合成系统蜡质垢的化学清洗[J].化学清洗,1999,15(3):18-20.
作者姓名:门勇  刘新
摘    要:合成法甲醇生产,都基于CO、CO2与H2的催化加成反应,由于工艺原因,甲醇合成塔及后续粗醇分离设备内均沉积含有蜡质的结垢,还是带有共性的问题。蜡质垢不垢和其它工艺结垢性质相关极大,采用常规酸洗和机械方法除蜡垢效果不好。兰州华福化学技术开发的HF003-NTA甲醇合成系统络合清洗技术可较好地解决蜡垢清除难题。

关 键 词:甲醇  合成系统  蜡质垢  清洗  化学清洗
本文献已被 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号