甲醇合成系统蜡质垢的化学清洗 |
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引用本文: | 门勇,刘新.甲醇合成系统蜡质垢的化学清洗[J].化学清洗,1999,15(3):18-20. |
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作者姓名: | 门勇 刘新 |
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摘 要: | 合成法甲醇生产,都基于CO、CO2与H2的催化加成反应,由于工艺原因,甲醇合成塔及后续粗醇分离设备内均沉积含有蜡质的结垢,还是带有共性的问题。蜡质垢不垢和其它工艺结垢性质相关极大,采用常规酸洗和机械方法除蜡垢效果不好。兰州华福化学技术开发的HF003-NTA甲醇合成系统络合清洗技术可较好地解决蜡垢清除难题。
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关 键 词: | 甲醇 合成系统 蜡质垢 清洗 化学清洗 |
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