| Ti6Al4V无氢离子氮化工艺研究 |
| |
| 引用本文： | 张云琨,王树臣,张艳鸿,董旭.Ti6Al4V无氢离子氮化工艺研究[J].热加工工艺,2012,41(2):203-204. |
| |
| 作者姓名： | 张云琨 王树臣 张艳鸿 董旭 |
| |
| 作者单位： | 长春奥普光电技术股份有限公司,吉林长春,130031 |
| |
| 摘 要： | 对Ti6Al4V进行以氮气为气源的无氢离子氮化工艺研究,氮化温度分别为700、750、800和900℃,保温时间4 h,通过金相检验、显微硬度测定和X射线衍射结构分析,研究了离子氮化温度等参数对渗层厚度、硬度和组织结构的影响规律。结果表明:温度是影响无氢离子氮化渗层厚度、硬度的主要因素,900℃的氮化层表面硬度达到897 HV,渗层厚度达到0.32 mm;氮化层由Ti2N(ε相)和TiN(δ相)组成。
|
| 关 键 词： | 离子氮化 氮气 Ti6Al4V |
Study on Ionitriding Process of Ti6Al4V Without Hydrogen |
| |
| ZHANG Yunkun
,
WANG Shuchen
,
ZHANG Yanhong
,
DONG Xu.Study on Ionitriding Process of Ti6Al4V Without Hydrogen[J].Hot Working Technology,2012,41(2):203-204. |
| |
| Authors: | ZHANG Yunkun WANG Shuchen ZHANG Yanhong DONG Xu |
| |
| Affiliation: | (Changchun UP Optotech Co.,Ltd.,Changchun 130031,China) |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
