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镍酸镧导电薄膜的热处理制度与电性能研究
引用本文:陆维,郑萍,孟中岩.镍酸镧导电薄膜的热处理制度与电性能研究[J].功能材料与器件学报,2004,10(2):200-204.
作者姓名:陆维  郑萍  孟中岩
作者单位:上海大学材料科学与工程学院,上海,201800;上海大学材料科学与工程学院,上海,201800;上海大学材料科学与工程学院,上海,201800
基金项目:国家自然科学资金资助项目(No.59982005)
摘    要:研究了镍酸镧(分子式LaNiO3,简称LNO)导电薄膜的制备,及其与性能之间的关系。实验结果表明热处理制度和热处理过程中通氧是LNO薄膜获得良好电性能的关键。实验发现LNO薄膜在退火温度5500C时就已经晶化,并且随着退火温度的升高,薄膜电性能也随之提高,但是当温度高于860℃后,LNO薄膜发生了结构相变并伴有NiO的析出,因此导致了薄膜电阻率的升高。较短的预处理时间和较长的退火处理时间有助于薄膜晶粒的长大,从而提高薄膜的电性能。同时也讨论了LNO薄膜电阻率和工作温度的关系。

关 键 词:LaNiO3  热处理  薄膜  电阻率
文章编号:1007-4252(2004)02-0200-05
修稿时间:2003年9月15日

Properties of LaNiO3 thin films deposited on Si (100) substrates by sol -gel method
LU Wei,ZHENG Ping,MENG Zhong-yan.Properties of LaNiO3 thin films deposited on Si (100) substrates by sol -gel method[J].Journal of Functional Materials and Devices,2004,10(2):200-204.
Authors:LU Wei  ZHENG Ping  MENG Zhong-yan
Abstract:
Keywords:LaNiO_3  thermal treatment  thin film  resistivity
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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