| 衬底温度对AlN/ZnO复合薄膜结构形貌的影响 |
| |
| 引用本文： | 高扬,许绍俊,谌青青,孟祥钦,杨涛,文忠,张彩虹,杨成韬.衬底温度对AlN/ZnO复合薄膜结构形貌的影响[J].压电与声光,2012,34(5):753-755. |
| |
| 作者姓名： | 高扬 许绍俊 谌青青 孟祥钦 杨涛 文忠 张彩虹 杨成韬 |
| |
| 作者单位： | 1. 电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都,610054
2. 川庆钻探有限公司地址勘探开发研究院,四川成都,610054 |
| |
| 基金项目： | 总装预研基金资助项目(5141202) |
| |
| 摘 要： | 采用直流反应磁控溅射法在ZnO/Si基片上制备了良好(002)(c轴)取向的AlN薄膜,利用XRD、AFM对不同衬底温度下制备的AlN薄膜的结构、形貌进行了分析表征.结果表明,在一定湿度范围内(450～650℃),随着衬底温度的升高,晶粒逐渐长大,沉积速率增大,表面粗糙度先减小后增大；AlN(002)择优取向呈改善趋势,取向度先增大后减小,600℃时达到最佳.
|
| 关 键 词： | AlN/ZnO复合薄膜 磁控溅射 衬底温度 结构 形貌 |
Influence of Substrate Temperature on Crystal Morphology of AlN/ZnO Compound Thin Films |
| |
| GAO Yang,XU Shaojun,CHEN Qingqing,MENG Xiangqin,YANG Tao,WEN Zhong,ZHANG Caihong and YANG Chengtao.Influence of Substrate Temperature on Crystal Morphology of AlN/ZnO Compound Thin Films[J].Piezoelectrics & Acoustooptics,2012,34(5):753-755. |
| |
| Authors: | GAO Yang XU Shaojun CHEN Qingqing MENG Xiangqin YANG Tao WEN Zhong ZHANG Caihong and YANG Chengtao |
| |
| Affiliation: | 1(1.State Key Lab.of Electronic Thin Films and Integrated Devices,University of Electronic Science and Technology of China,Chengdu 610054,China;2.Geological Exploration & Development Research Institute of CNPC Chuanqing Drilling Engineering Company Limited,Chengdu 610054,China) |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | AlN compound thin films magnetron sputtering substrate temperature structure morphology |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《压电与声光》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《压电与声光》下载全文 |
|
