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408nm InGaN/GaN LED的材料生长及器件光学特性
引用本文:王晓华,展望,刘国军.408nm InGaN/GaN LED的材料生长及器件光学特性[J].半导体学报,2007,28(1):104-107.
作者姓名:王晓华  展望  刘国军
作者单位:长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,长春,130022;长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,长春,130022;长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,长春,130022
摘    要:通过提高InGaN量子阱结构的生长温度,降低量子阱In组分的掺入效率,提高InGaN/GaN量子阱结构生长质量,缩短LED输出波长等手段,实现了紫光LED高效率输出.采用高分辨率X射线双晶衍射、扫描隧道显微镜和光致发光谱技术研究了高温生长InGaN/GaN多量子阱的结构和光学特性.封装后的300μm×300μm LED器件在20mA的注入电流下输出功率为5.2mW,输出波长为408nm.

关 键 词:量子阱  GaN  LED
文章编号:0253-4177(2007)01-0104-04
修稿时间:8/29/2006 1:26:33 PM

Growth and Optical Characteristics of 408nm InGaN/GaN MQW LED
Wang Xiaohu,Zhan Wang and Liu Guojun.Growth and Optical Characteristics of 408nm InGaN/GaN MQW LED[J].Chinese Journal of Semiconductors,2007,28(1):104-107.
Authors:Wang Xiaohu  Zhan Wang and Liu Guojun
Affiliation:State Key Laboratory of High Power Semiconductor Lasers,Changchun University of Science and Technology,Changchun 130022,China;State Key Laboratory of High Power Semiconductor Lasers,Changchun University of Science and Technology,Changchun 130022,China;State Key Laboratory of High Power Semiconductor Lasers,Changchun University of Science and Technology,Changchun 130022,China
Abstract:
Keywords:quantum well  GaN  LED
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