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圆光栅刻划偏心分析与调整
作者姓名:陈林  胡学良
作者单位:上海机械学院,上海机械学院
摘    要:本文通过对圆光栅刻划偏心与莫尔条纹图案特性之间对应关系的分析讨论,提出了在圆刻机上调整刻划偏心大小及方向的具体方法。

关 键 词:圆光栅  刻划  干涉条纹  偏心  调整
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