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| PTC—BaTiO3射频溅射用靶材的制备 | |
| 引用本文： | 邵刚勤,苏武大.PTC—BaTiO3射频溅射用靶材的制备[J].材料科学与工艺,1995,3(4):44-47. |
| 作者姓名： | 邵刚勤 苏武大 |
| 摘 要： | 研究了用于射频溅射ＰＴＣ－ＢａＴｉＯ３薄膜的厚大靶材制备工艺，所制成的靶材的室温电阻率为８００Ωｃｍ，ＰＴＣ效应〉１０＾５，平均粒径为１－３μｍ，讨论了配方ＴｉＯ２品种的选择，施受主添加剂的搭配与掺量以及烧成中的升温速率对于ＰＴＣ效应的影响。 |
| 关 键 词： | 靶材 射频溅射 PTC 薄膜 集成电路 |
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