HfO_2/SiO_2增透膜激光诱导损伤形貌分析 |
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引用本文: | 罗康,蒲云体,乔曌,刘志超,罗晋,朱基亮,马平.HfO_2/SiO_2增透膜激光诱导损伤形貌分析[J].广州化工,2015(4):90-92. |
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作者姓名: | 罗康 蒲云体 乔曌 刘志超 罗晋 朱基亮 马平 |
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作者单位: | 四川大学材料科学与工程学院;成都精密光学工程研究中心 |
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摘 要: | 用电子束蒸发法制备了Hf O2/Si O2增透膜样品,并进行退火。测量未退火样品与退火样品的透射光谱,发现退火样品的光谱明显向短波方向移动,原因是退火后薄膜中的吸附水被去除。使用Nd:YAG激光器在"S-on-1"模式下对样品进行了激光诱导损伤处理。两种样品的损伤形貌均主要是损伤坑。考虑到损伤的成因是基底的亚表面微裂纹中的吸收颗粒吸收激光能量后导致裂纹扩大,最终形成损伤坑。基于这种损伤机制,退火对损伤没有明显影响。通过显微镜在损伤形貌中观察到了冲击波传输形成的波动条纹。
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关 键 词: | 增透膜 激光诱导损伤 损伤形貌 HfO2/SiO2 |
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