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| 聚焦离子束技术最近进展 | |
| 引用本文： | Gamo.,K 海韵.聚焦离子束技术最近进展[J].国外核聚变与等离子体应用,1998(1):76-80,F004. |
| 作者姓名： | Gamo. K 海韵 |
| 摘 要： | 本文评述了聚焦离子（ＦＩＢ）技术的最新进展。这些技术包括离子植入，离子束辅助蚀刻和沉积以及就地制造，由于ＦＩＢ的无掩模能力和高电流密度，发现ＦＩＢ作为一种显微外科手术工具的在超大规模集成（ＵＬＳＩ）器件或材料分析以及就地制造方面有重要应用，最近的聚焦离子束系统能产生直径小于１０ｎｍ的聚焦离子束，而且作为纳米制造工具的重要性也日益增加，使用ＦＩＢ主要在ＧａＡｓ／ＧａＡｌＡｓ异质结构中制造了各种小尺寸 |
| 关 键 词： | 聚焦离子束 无掩模能力 离子束辅助沉积 蚀刻 |
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