| 光刻机模拟工件台掩模台同步运动误差分析 |
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| 引用本文： | 王春洪,段广洪,朱煜.光刻机模拟工件台掩模台同步运动误差分析[J].制造技术与机床,2007(9):42-43,47. |
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| 作者姓名： | 王春洪 段广洪 朱煜 |
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| 作者单位： | 清华大学精密仪器与机械学系,北京,100084 |
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| 基金项目： | 国家“九七三”重点基础研究项目（2003CB716204,2004CB318007） |
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| 摘 要： | 步进扫描光刻机是半导体制造行业的关键设备，在这种光刻机系统中，硅片台和掩模台要按照1：4的速度比进行同步扫描运动，同步运动性能指标以移动平均差（MA）和移动标准差（MSD）来度量。扫描过程中的同步性能对光刻机最终能生产出的芯片特征尺寸有着很大的影响。文章对模拟硅片一掩模台同步运动的同步误差进行了分析，给出在一定的扫描速度下，不同频率范围的误差成分对MA和MSD的影响的规律。分析结果对于有针对性地提高同步性能指标具有一定的指导意义。
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| 关 键 词： | 光刻机 同步扫描 误差分析 |
| 修稿时间： | 2007-04-25 |
Synchronization Error Analysis on Step & Scan Lithography |
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| WANG Chunhong,DUAN Guanghong,ZHU Yu.Synchronization Error Analysis on Step & Scan Lithography[J].Manufacturing Technology & Machine Tool,2007(9):42-43,47. |
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| Authors: | WANG Chunhong DUAN Guanghong ZHU Yu |
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| Affiliation: | Department of Precision Instruments and Mechanology, Tsinghua University, Beijing 100084, CHN |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Lithography Step and Scan Error Analysis |
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