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射频磁控溅射ZnO薄膜的微结构与光学特性
引用本文:黄飞,孙仲亮,孟凡明,孙兆奇.射频磁控溅射ZnO薄膜的微结构与光学特性[J].真空电子技术,2008(2):1-4.
作者姓名:黄飞  孙仲亮  孟凡明  孙兆奇
作者单位:1. 安徽大学,物理与材料科学学院,安徽,合肥,230039;安徽大学,实验与物资设备管理处,安徽,合肥,230039
2. 安徽大学,物理与材料科学学院,安徽,合肥,230039
基金项目:国家自然科学基金 , 高等学校博士学科点专项科研项目 , 安徽省人才基金 , 安徽省高等学校省级自然科学基金 , 安徽省信息材料与器件重点实验室(安徽大学)开放基金
摘    要:研究了膜厚对ZnO薄膜微结构和光学性能的影响。采用射频磁控溅射法在单晶硅(111)和玻璃基片上制备了不同厚度的ZnO薄膜。通过X射线衍射、原子力显微镜和紫外可见光谱对薄膜进行了表征。结果表明薄膜结晶性能良好,在(002)晶面具有明显的c轴取向。随着薄膜厚度的增加,透射率下降,吸收边红移,禁带宽度逐渐减小。

关 键 词:射频磁控溅射  ZnO薄膜  微结构  光学性能
文章编号:1002-8935(2008)02-0001-04
修稿时间:2007年12月31

Microstructure and Optical Properties of ZnO Thin Films by RF Magnetron Sputtering
HUANG Fei,SUN Zhong-liang,MENG Fan-ming,SUN Zhao-qi.Microstructure and Optical Properties of ZnO Thin Films by RF Magnetron Sputtering[J].Vacuum Electronics,2008(2):1-4.
Authors:HUANG Fei  SUN Zhong-liang  MENG Fan-ming  SUN Zhao-qi
Abstract:The microstructure and optical properties of ZnO thin films were studied in details. ZnO thin films were deposited on silicon(111)and glass substrates by RF magnetron sputtering. XRD, AFM and UV-Vis spectra were employed to characterize the samples. It is found that ZnO thin films show excellent crystallization and the C-axis-orientated of (002) is obvious. As thickness of the ZnO thin films increases, the grain size grows, the transmission rate decreases and the absorption edge shifts towards long-wavelength side.
Keywords:RF magnetron sputtering  ZnO thin films  Microstructure  Optical properties
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