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| 掺氮类金刚石薄膜的导电性能及退火特性 | |
| 引用本文： | 张伟丽,居建华,夏义本,范轶明,王林军,黄志明,郑国珍,汤定元. 掺氮类金刚石薄膜的导电性能及退火特性[J]. 红外与毫米波学报, 2002, 21(Z1): 97-100 |
| 作者姓名： | 张伟丽 居建华 夏义本 范轶明 王林军 黄志明 郑国珍 汤定元 |
| 作者单位： | 1. 上海大学材料科学与工程学院,上海,201800 2. 中国科学院上海技术物理研究所,上海,200083 |
| 摘 要： | 对含氮的类金刚石薄膜的导电性能进行了研究,发现随着氮含量的增加,沉积薄膜的电导率增加较缓,且当氮含量达到一定值后,氮含量继续增加反而薄膜电导率有所下降.对薄膜进一步热处理,结果表明低掺氮的薄膜退火后导电性能有了较大的提高,而高掺氮的薄膜退火后电导率有所下降.文章通过分析退火前后薄膜的红外光谱,提出了充当施主杂质中心氮原子"激活"的慨念和高掺杂后薄膜中氮原子形成a-CNx结构.从而从微观结构解释了掺氮对类金刚石薄膜导电性电能的影响. |
| 关 键 词： | 掺氮类金刚石薄膜 导电性能 微观结构. |
| 修稿时间： | 2001-06-12 |
ELECTRICAL CONDUCTION PROPERTIES AND ANNEALING EFFECT OF NITRIDE DLC FILMS |
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| ZHANG Wei-Li JU Jian-Hua XIA Yi-Ben FAN Yi-Ming WANG Lin-JunHUANG Zhi-Ming ZENG Guo-Zheng TANG Ding-Yuan. ELECTRICAL CONDUCTION PROPERTIES AND ANNEALING EFFECT OF NITRIDE DLC FILMS[J]. Journal of Infrared and Millimeter Waves, 2002, 21(Z1): 97-100 | |
| Authors: | ZHANG Wei-Li JU Jian-Hua XIA Yi-Ben FAN Yi-Ming WANG Lin-JunHUANG Zhi-Ming ZENG Guo-Zheng TANG Ding-Yuan |
| Abstract: | |
| Keywords: | nitride DLC films electrical properties microstructurc. |
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