|
|||||
|
|
| HCD空心阴极离子镀工艺研究 | |
| 引用本文： | 刘高杰,邓春枝.HCD空心阴极离子镀工艺研究[J].中国钼业,1997,21(A00):46-48. |
| 作者姓名： | 刘高杰 邓春枝 |
| 摘 要： | 离子镀技术是在其真空条件下，应用气体放电技术实现的镀膜，在国外工业生产中已得到广泛的应用，国内对这项技术也进行了研究并在设备和工艺上都取得了很大的成果。离子镀膜技术自１９６３年出现以来，由于这项技术可以在金属零件、塑料、陶瓷、玻璃、纸张等非金属材料上涂覆一层上有不同性能的单一镀层、化合物甚至合金镀层，只要采取不同的工艺，就可获得表面致密的耐腐蚀膜、耐高温膜；表面硬化的耐磨擦膜；润滑膜及各种颜色的装 |
| 关 键 词： | 离子镀 HCD 空心阴极离子镀 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |