| 化学沉淀法制备纳米二氧化硅 |
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| 引用本文： | 郭宇,吴红梅,周立岱,杜金山. 化学沉淀法制备纳米二氧化硅[J]. 辽宁化工, 2005, 34(2): 56-57 |
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| 作者姓名： | 郭宇 吴红梅 周立岱 杜金山 |
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| 作者单位： | 辽宁工学院材料与化学工程学院,辽宁,锦州,121001;辽宁工学院材料与化学工程学院,辽宁,锦州,121001;辽宁工学院材料与化学工程学院,辽宁,锦州,121001;辽宁工学院材料与化学工程学院,辽宁,锦州,121001 |
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| 摘 要： | ![]()
以水玻璃和盐酸为原料，采用化学沉淀法制备纳米SiO2。工艺条件为：温度40-50℃，pH值5—6，干燥温度110℃，焙烧温度500℃，制得的二氧化硅粒径在50-60nm，比表面积大，分散性好，达到了工业生产的标准。
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| 关 键 词： | 纳米二氧化硅 化学沉淀法 制备 |
| 文章编号： | 1004-0935(2005)02-056-02 |
| 修稿时间： | 2004-12-01 |
Preparation of Nano SiO2 by Chemical Precipitation Process |
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| GUO Yu,WU Hong-mei,ZHOU Li-dai,DU Jin-shan. Preparation of Nano SiO2 by Chemical Precipitation Process[J]. Liaoning Chemical Industry, 2005, 34(2): 56-57 |
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| Authors: | GUO Yu WU Hong-mei ZHOU Li-dai DU Jin-shan |
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| Abstract: | ![]()
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| Keywords: | Nano SiO2 Chemical precipitation Process |
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