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化学水浴法制备ZnS薄膜及其光学性能
引用本文:崔占奎,邹正光,龙飞. 化学水浴法制备ZnS薄膜及其光学性能[J]. 化工新型材料, 2007, 35(10): 62-64
作者姓名:崔占奎  邹正光  龙飞
作者单位:桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004;桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004;桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004
摘    要:
以酒石酸与柠檬酸钠为络合剂,采用化学水浴法(CBD)沉积ZnS薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、X射线能谱仪(EDAX)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)研究ZnS薄膜的结构、组成、形貌及光学性能,利用透射光谱计算ZnS薄膜的光学禁带宽度(Eg).结果表明:ZnS薄膜呈立方相晶体结构,经过300℃熟处理1h的ZnS薄膜原子比为Zn:S=1:0.85,表面均一致密,在可见光区的平均透射率达到80%,光学禁带宽度为3.74ev,适合作为太阳能电池过渡层.

关 键 词:化学水浴法  ZnS  薄膜  光学性能
修稿时间:2007-05-24

Chemical bath deposition of ZnS thin film and its optical properties
Cui Zhankui,Zou Zhengguang,Long Fei. Chemical bath deposition of ZnS thin film and its optical properties[J]. New Chemical Materials, 2007, 35(10): 62-64
Authors:Cui Zhankui  Zou Zhengguang  Long Fei
Abstract:
Keywords:chemical bath deposition method  ZnS  thin film  optical property
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