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元素成分对磁控溅射TiNi薄膜结构性能的影响及其控制
引用本文:刘二强,鲍明东,田林海,唐宾.元素成分对磁控溅射TiNi薄膜结构性能的影响及其控制[J].电镀与涂饰,2009,28(7).
作者姓名:刘二强  鲍明东  田林海  唐宾
作者单位:1. 太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024;宁波工程学院材料工程研究所,浙江,宁波,315016
2. 宁波工程学院材料工程研究所,浙江,宁波,315016
3. 太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024
基金项目:国家自然科学基金,山西省高等学校中青年拔尖创新人才支持计划项目,山西省留学回国人员科研启动基金 
摘    要:描述了TiNi形状记忆合金薄膜的一般特性及成分对其组织及性能的重要影响.磁控溅射法是应用最为广泛的制备TiNi基形状记忆薄膜的方法之一,但由于Ti与Ni的溅射产额不同,很难得到理想成分的TiNi薄膜.目前主要采用改变工艺参数或靶材成分补偿的方法控制薄膜的成分.借鉴反应磁控溅射沉积薄膜时成分控制方法,提出了一种利用溅射靶表面光发射谱的控制技术,理论上可以达到精确检测或控制TiNi形状记忆合金薄膜成分的目的.

关 键 词:钛镍  形状记忆合金  薄膜  成分  控制  光发射谱

Effect of elemental composition on structure and properties of TiNi films deposited by magnetron sputtering and composition control
LIU Er-qiang,BAO Ming-dong,TIAN Lin-hai,TANG Bin.Effect of elemental composition on structure and properties of TiNi films deposited by magnetron sputtering and composition control[J].Electroplating & Finishing,2009,28(7).
Authors:LIU Er-qiang  BAO Ming-dong  TIAN Lin-hai  TANG Bin
Affiliation:LIU Er-qiang,BAO Ming-dong,TIAN Lin-hai,TANG Bin Institute of Surface Engineering,Taiyuan University of Technology,Taiyuan 030024,China
Abstract:The primary characteristics and the effect of composition on microstructure and properties of TiNi shape memory alloy(SMA) thin film were summarized.Magnetron sputtering is currently one of the most widely-used technique for preparing TiNi thin films.But it is difficult to prepare stoichiometric TiNi thin film because of the different sputtering yields between Ti and Ni.At present,changing deposition parameters and altering the target composition are mainly used to control the compositions of TiNi films.A n...
Keywords:titanium nickelide  shape memory alloy  thin film  composition  control  optical emission spectroscopy
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