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紫外纳米压印OLED衬底微结构的制备技术
引用本文:李阳,徐维,王忆.紫外纳米压印OLED衬底微结构的制备技术[J].微纳电子技术,2013(7):462-465,469.
作者姓名:李阳  徐维  王忆
作者单位:五邑大学应用物理与材料学院;西安交通大学先进制造技术研究所
基金项目:广东省自然科学基金资助项目(S2011040005742,10452902001005900);广东省科技创新项目(2012KJCX0100);中国博士后基金资助项目(20090461297);江门市科技计划项目(2011010049758)
摘    要:在有机发光二极管(OLED)器件衬底上制备可传递三维立体微结构可有效消除波导、增加出光耦合,从而增加器件出光效率。纳米压印技术是制备立体微结构的主要方法之一。采用紫外纳米压印技术在OLED衬底上制备三维立体微结构。首先采用电子束光刻(EBL)技术与干法刻蚀相结合的方法来制备高精度的紫外纳米压印模板;然后对模板进行清洗与抗粘连处理;最后采用紫外纳米压印技术在OLED衬底上成功制备了可传递三维立体微结构。制备结果表明,所形成的微结构具有均匀性好和压印精度高的特点。

关 键 词:有机发光二极管(OLED)  衬底  微结构  模板  紫外纳米压印
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