| 化学气相沉积TiN—沉积温度及基体中碳的影响 |
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| 引用本文： | 王豫,陈二保.化学气相沉积TiN—沉积温度及基体中碳的影响[J].安徽工业大学学报,1989(2). |
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| 作者姓名： | 王豫 陈二保 |
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| 作者单位： | 华东冶金学院冶金工程系，华东冶金学院冶金工程系 |
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| 摘 要： | 本文研究了沉积温度对Cr12MoV钢基体TiN沉积速率的影响。TiN沉积速率高于低碳钢基体TiN沉积速率,并且随沉积温度升高而增加。研究了不同碳含量铁基体中碳扩散对TiN沉积的影响。TiN沉积速率随碳含量增加线性增加;涂层硬度亦随碳含量增加而增加。基于铁的催化作用,推导出TiN沉积速率方程式: R=h_1+k_1·C
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| 关 键 词： | 化学气相沉积 氮化钛 涂层 |
Chemical Vapour Deposition of TiN-the Effects of Deposition Temperature and Carbon in the Substrates on CVD TiN |
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| Wang Yu Chen Erbao.Chemical Vapour Deposition of TiN-the Effects of Deposition Temperature and Carbon in the Substrates on CVD TiN[J].Journal of Anhui University of Technology,1989(2). |
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| Authors: | Wang Yu Chen Erbao |
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| Affiliation: | Metallurgical Engineering Department |
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| Keywords: | Chamicel vapour deposition Titanium Nitride Coating |
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