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| 基于专利分析的全球纳米光电技术发展趋势研究 | |
| 引用本文： | 张慧婧,钟永恒,江洪.基于专利分析的全球纳米光电技术发展趋势研究[J].电子元件与材料,2014(12). |
| 作者姓名： | 张慧婧 钟永恒 江洪 |
| 作者单位： | 中国科学院 武汉文献情报中心,湖北 武汉,430071 |
| 摘 要： | 首先对全球纳米光电技术的发展概况进行了概述。然后，基于德温特专利数据库，利用汤姆森数据分析器（TDA）及其他分析工具，以全球纳米光电技术领域的专利为研究对象，从宏观、中观、微观三重视角，对专利的全球年度申请量、技术生命周期、重点国家/地区专利申请态势、技术布局及领先机构研发重点等进行了分析，揭示了全球纳米光电技术的研发和竞争态势。 |
| 关 键 词： | 纳米光电技术 专利分析 综述 光电子器件 半导体材料 产业布局 |
Study of global nano photovoltaic technology development trend based on patent analysis |
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| ZHANG Huijing,ZHONG Yongheng,JIANG Hong.Study of global nano photovoltaic technology development trend based on patent analysis[J].Electronic Components & Materials,2014(12). | |
| Authors: | ZHANG Huijing ZHONG Yongheng JIANG Hong |
| Abstract: | |
| Keywords: | nano photovoltaic technology patent analysis review photoelectron device semiconductor material industry layout |
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