超细二氧化硅的制备工艺的研究

本工艺主要以偏硅酸钠（Na2SiO3）和硫酸（H2SO4）为原料,通过添加适宜的表面活性剂及化学添加助剂,在适宜的反应温度和时间、PH值、干燥温度等条件下得到产品,并通过正交实验法得出了最佳的工艺条件。实验结果表明：在最佳工艺条件下所制得的纳米（超细）氧化硅颗粒大小分布均匀、平均粒径在2um-8um之间。