| 193 nm移相点衍射干涉仪的测量误差分析 |
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| 引用本文： | 邢廷文,何国良,舒亮. 193 nm移相点衍射干涉仪的测量误差分析[J]. 光电工程, 2009, 36(2) |
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| 作者姓名： | 邢廷文 何国良 舒亮 |
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| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所,成都,610209;中国科学院光电技术研究所,成都,610209;中国科学院研究生院,北京,100039 |
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| 摘 要： | 为了提高移相点衍射干涉仪对193 nm投影光刻系统的检测精度,本文对其主要测量误差进行了探讨.在简要介绍了193 nm移相点衍射干涉仪的基本结构和测量原理之后,总结了可能对测量结果产生影响的各种误差及其产生的原因.通过理论分析和数值模拟的方法分别对参考波前误差,相移误差、探测器非线性误差以及光源波动,环境变化引起的随机误差等进行了具体分析,从而得到各种测量误差的大小、存在形式以及与干涉仪结构参数的依赖关系,并提出了相应的避免或减小误差的方法.
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| 关 键 词： | 干涉测量 移相点衍射干涉仪 光学检测 193nm投影光刻 |
Measurement Errors in the 193 nm Phase-shifting Point Diffraction Interferometer |
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| XING Ting-wen,HE Guo-liang,SHU Liang. Measurement Errors in the 193 nm Phase-shifting Point Diffraction Interferometer[J]. Opto-Electronic Engineering, 2009, 36(2) |
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| Authors: | XING Ting-wen HE Guo-liang SHU Liang |
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