|
|||||
|
|
| TATB基PBX纳米孔隙的正电子湮没寿命谱 | |
| 作者姓名： | 杨仍才 田勇 张伟斌 杜宇 |
| 作者单位： | 中国工程物理研究院化工材料研究所,四川绵阳,621900 |
| 基金项目： | 国防预研（42604030401） |
| 摘 要： | 为研究压制参数对TATB基高聚物粘结炸药(PBX)微观结构的影响,压制了密度为1.6～1.9 g·cm-3的PBX,采用了正电子湮没寿命谱(PALS)技术表征了其微观结构,讨论了不同压制密度PBX的纳米孔隙的变化.结果显示:压制密度越大,PBX中纳米孔隙浓度越小,平均尺寸越大,这表明压制过程中,PBX界面孔隙不断减小,... |
| 关 键 词： | 高能物理学 TATB基PBX 压制 纳米孔隙 正电子湮没寿命谱 |
| 收稿时间： | 2010-04-14 |
| 修稿时间： | 2010-10-31 |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《含能材料》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《含能材料》下载免费的PDF全文 | |