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磁控溅射Fe-N薄膜的结构和性能
引用本文:周剑平,李华飚,乔祎,顾有松,李丹,常香荣,赵春生,田中卓. 磁控溅射Fe-N薄膜的结构和性能[J]. 材料研究学报, 2000, 14(6): 647-651
作者姓名:周剑平  李华飚  乔祎  顾有松  李丹  常香荣  赵春生  田中卓
作者单位:北京科技大学;北京科技大学新金属材料重点实验室
基金项目:国家自然科学基金资助项目!19890310.
摘    要:研究了氮流量对磁控溅射Fe-N薄膜的磁性和结构的影响.加氮薄膜的软磁性能明显优于纯铁的.当氮的流量为1.0mL·min~(-1)时,矫顽力 H_c达到最小值205A/m.当氮流量为0.8mL·min_(-1)时,饱和磁化强度达到M_s=2.36T.在 Fe-N薄膜中未发现γ’-Fe4N和 α”-Fe16N2.

关 键 词:磁控溅射  Fe-N膜  饱和磁化强度  矫顽力
文章编号:1005-3093(2000)06-0647-05
修稿时间:2000-01-27

STRUCTURE AND MAGNETIC PROPERTIES OF Fe-N FILMS PREPARED BY MAGNETRON SPUTTERING
ZHOU Jianping,LI Huabiao,QIAO Yi,GU Yousong,LI Dan,CHANG Xiangrong,ZHAO Chunsheng,TIAN Zhongzhuo. STRUCTURE AND MAGNETIC PROPERTIES OF Fe-N FILMS PREPARED BY MAGNETRON SPUTTERING[J]. Chinese Journal of Materials Research, 2000, 14(6): 647-651
Authors:ZHOU Jianping  LI Huabiao  QIAO Yi  GU Yousong  LI Dan  CHANG Xiangrong  ZHAO Chunsheng  TIAN Zhongzhuo
Abstract:
Keywords:magnetron sputtering   Fe-N films   saturation magnetization   coercivityd  
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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