离子镀膜技术的进展 |
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引用本文: | 王福贞,刘欢,那日松.离子镀膜技术的进展[J].真空,2014(5). |
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作者姓名: | 王福贞 刘欢 那日松 |
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作者单位: | 北京联合大学机电学院; |
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摘 要: | 本文概括地介绍了五十年来离子镀膜技术的发展概况,介绍了离子镀膜技术的意义、原理、特点、发展和应用范围。从D.M.Mattox发明离子镀膜技术以来的五十年中,离子镀膜技术适应高端产品加工和高新技术发展的要求,得到了飞速发展。各种激励气体放电过程技术,提高等离子体密度的措施层出不穷,满足各种需要的新的薄膜材料在各个应用领域得到了广泛的应用。对国防事业、宇航事业、高新技术产品和美化人民生活做出了突出贡献。我们期待离子镀膜技术继往开来,在新的五十年中再放光彩。
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关 键 词: | 离子镀膜技术 固态物质源离子镀膜技术 气态物质源离子镀膜技术 激励气体放电技术 |
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