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非掺杂AlGaN/GaN HEMT微波功率器件
引用本文:曾庆明,李献杰,周洲,王勇,王晓亮. 非掺杂AlGaN/GaN HEMT微波功率器件[J]. 半导体学报, 2005, 26(13): 151-154
作者姓名:曾庆明  李献杰  周洲  王勇  王晓亮
作者单位:中国电子科技集团公司第13研究所,石家庄 050051;中国电子科技集团公司第13研究所,石家庄 050051;中国电子科技集团公司第13研究所,石家庄 050051;中国电子科技集团公司第13研究所,石家庄 050051;中国科学院半导体研究所,北京 100083
摘    要:
介绍了非掺杂GaN HEMT微波功率器件的结构、制造工艺和测试结果. 制作了几种0.6μm栅长、100~1000μm不同栅宽的器件,对于栅宽分别为100, 300和500μm的器件,典型最大跨导为190~170mS/mm;截止频率比较相近,大约为24GHz;而最高振荡频率随栅宽增加而降低,分别为56, 46和40GHz. 测试了8GHz频率时,不同工作条件下1000μm栅宽器件的连续波微波功率特性:Vds=17V, Id=310mA, Pin=25.19dBm时,Po=30dBm (1W) ,Ga=4.81dB; Vds=18V, Id=290mA, Pin=27dBm时,Po=31.35dBm (1.37W) ,Ga=4.35dB.

关 键 词:GaN   HEMT;微波功率器件

Investigation of Undoped AlGaN/GaN Microwave Power HEMT
Zeng Qingming,Li Xianjie,Zhou Zhou,Wang Yong and Wang Xiaoliang. Investigation of Undoped AlGaN/GaN Microwave Power HEMT[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2005, 26(13): 151-154
Authors:Zeng Qingming  Li Xianjie  Zhou Zhou  Wang Yong  Wang Xiaoliang
Affiliation:13th Institute of China Electronic Technology Corporation,Shijiazhuang 050051,China;13th Institute of China Electronic Technology Corporation,Shijiazhuang 050051,China;13th Institute of China Electronic Technology Corporation,Shijiazhuang 050051,China;13th Institute of China Electronic Technology Corporation,Shijiazhuang 050051,China;Institute of Semiconductors,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100083,China
Abstract:
Keywords:undoped  GaN  HEMT  microwave power devices
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