| 磁控溅射MoS2/Ni复合膜的制备及其摩擦性能 |
| |
| 引用本文： | 姚固文,李长生,张晔.磁控溅射MoS2/Ni复合膜的制备及其摩擦性能[J].机械工程材料,2007,31(4):52-54,65. |
| |
| 作者姓名： | 姚固文 李长生 张晔 |
| |
| 作者单位： | 江苏大学材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013 |
| |
| 摘 要： | 采用磁控溅射法制备了MoS2/Ni复合膜,同时对影响膜层性能的工艺参数进行了初步探讨,并对复合膜进行了成分与结构分析以及摩擦试验.结果表明:在本试验工艺参数(本底真空度为7.0×10-4 Pa,沉积气压为0.5 Pa,溅射功率为160 W,溅射氩气流量为80 cm3/s,靶基距为60 mm,基片温度为70℃)下制备的MoS2/Ni复合膜能够大大降低不锈钢等基底表面的摩擦因数,并且在高速重载的条件下具有更低的摩擦因数和更小的摩擦因数波动值.
|
| 关 键 词： | 磁控溅射 MoS2/Ni复合膜 摩擦 磁控溅射 膜的制备 摩擦性能 Magnetron Sputtering Performance Tribology Preparation 波动值 条件 高速重载 摩擦因数 基底表面 不锈钢 基片温度 靶基距 气流量 溅射功率 沉积气压 真空度 摩擦试验 |
| 文章编号： | 1000-3738（2007）04-0052-03 |
| 修稿时间： | 2006-05-292006-10-07 |
Preparation and Tribology Performance of Magnetron Sputtering MoS2/Ni Composite Films |
| |
| YAO Gu-wen,LI Chang-sheng,ZHANG Ye.Preparation and Tribology Performance of Magnetron Sputtering MoS2/Ni Composite Films[J].Materials For Mechanical Engineering,2007,31(4):52-54,65. |
| |
| Authors: | YAO Gu-wen LI Chang-sheng ZHANG Ye |
| |
| Affiliation: | Jiangsu University, Zhenjiang 212013, China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | magnetron sputtering MoS2/Ni composite film friction |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
