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NH3分解率对GaN半导体MOVPE外延生长成分空间的影响
引用本文:李长荣,卢琳,杜振民,张维敬. NH3分解率对GaN半导体MOVPE外延生长成分空间的影响[J]. 稀有金属, 2002, 26(4): 241-244
作者姓名:李长荣  卢琳  杜振民  张维敬
作者单位:北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083
基金项目:国家863计划(7150100032 ),国家自然科学基金资助项目 (5 0 0 710 0 8)
摘    要:
研究了以三甲基镓 (TMGa)和氨 (NH3 )为气源物质 ,以氢气 (H2 )为载气进行GaN半导体的金属有机物气相外延 (MOVPE)生长时 ,NH3 分解率对于GaN半导体外延生长的成分空间的影响。热力学计算结果表明 :随着NH3分解率的提高 ,用于生长GaN外延层的气 固两相区逐渐向高Ⅴ /Ⅲ比方向变小 ,解释了实际生长过程中Ⅴ /Ⅲ比要求很高的原因。预计高的Ⅴ /Ⅲ比及低的NH3 分解率有助于GaN的MOVPE外延生长。

关 键 词:热力学分析  氮化镓  MOVPE
文章编号:0258-7076(2002)04-0241-04
修稿时间:2001-10-17

Effect of NH3 Pyrolysis Rate on Composition Region for MOVPE Growth of GaN Semiconductor
Li Changrong,Lu Lin,Du Zhenmin and Zhang Weijing. Effect of NH3 Pyrolysis Rate on Composition Region for MOVPE Growth of GaN Semiconductor[J]. Chinese Journal of Rare Metals, 2002, 26(4): 241-244
Authors:Li Changrong  Lu Lin  Du Zhenmin  Zhang Weijing
Abstract:
Keywords:Thermodynamic analysis   GaN   MOVPE
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