| 高纯Ta溅射靶材微观组织与织构的EBSD研究 |
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| 引用本文： | 杨谦,张志清,邹彬,黄光杰,刘庆. 高纯Ta溅射靶材微观组织与织构的EBSD研究[J]. 电子显微学报, 2010, 29(1): 85-88 |
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| 作者姓名： | 杨谦 张志清 邹彬 黄光杰 刘庆 |
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| 作者单位： | 重庆大学材料科学与工程学院,重庆,40044;重庆大学材料科学与工程学院,重庆,40044;重庆大学材料科学与工程学院,重庆,40044;重庆大学材料科学与工程学院,重庆,40044;重庆大学材料科学与工程学院,重庆,40044 |
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| 基金项目： | 02科技重大专项(2009ZX02031) |
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| 摘 要： | 高纯Ta溅射靶材广泛应用于电子信息产品制造业中,其微观组织均匀性、晶粒尺寸大小及晶粒取向分布对溅射性能有着直接的影响。本文采用EBSD技术对高纯Ta溅射靶材不同区域的组织和织构进行了分析,并对高纯Ta溅射靶材的微观组织、织构组分和晶界取向差进行了研究。
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| 关 键 词： | 高纯Ta 溅射靶材 织构 取向差 EBSD |
Investigation on microstructure and texture in high pure tantalum sputtering targets by EBSD |
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| YANG Qian,ZHANG Zhi-qing,ZOU Bin,HUANG Guang-jie,LIU Qing. Investigation on microstructure and texture in high pure tantalum sputtering targets by EBSD[J]. Journal of Chinese Electron Microscopy Society, 2010, 29(1): 85-88 |
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| Authors: | YANG Qian ZHANG Zhi-qing ZOU Bin HUANG Guang-jie LIU Qing |
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| Affiliation: | College of Materials Science and Engineering;Chongqing University;Chongqing 400044;China |
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| Abstract: | The function of high pure tantalum sputtering targets is directly affected by the homogeneity of microstructure,grain size and orientation distribution.The microstructure and texture in the different regions of high pure tantalum sputtering targets is analyzed by EBSD. |
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| Keywords: | high purity tantalum sputtering target texture misorientation EBSD |
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