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C/C多层类金刚石薄膜的热稳定性研究
引用本文:沟引宁,黄楠,孙鸿.C/C多层类金刚石薄膜的热稳定性研究[J].真空科学与技术学报,2008,28(6).
作者姓名:沟引宁  黄楠  孙鸿
作者单位:1. 西南交通大学材料先进技术教育部重点实验室,四川省人工器官表面工程重点实验室,成都,610031;重庆工学院材料科学与工程学院,重庆,400050
2. 西南交通大学材料先进技术教育部重点实验室,四川省人工器官表面工程重点实验室,成都,610031
基金项目:国家自然科学基金资助项目  
摘    要:采用磁过滤直流阴极真空弧源沉积技术,通过改变基体偏压,在单晶Si片和0Cr19Ni9基体表面制备了C/C多层类金刚石薄膜。为了考察多层膜的热稳定性,对薄膜进行了300℃及400℃退火处理,采用X射线光电子能谱、硬度实验及摩擦磨损性能测试分析了退火对薄膜结构及性能的影响。结果表明在400℃范围内多层膜具有较高的热稳定性。

关 键 词:磁过滤直流阴极真空弧源  C/C多层类金刚石薄膜  热稳定性

Thermal Stability of C/C Multi-Layers
Gou Yinning,Huang Nan,Sun Hong.Thermal Stability of C/C Multi-Layers[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2008,28(6).
Authors:Gou Yinning  Huang Nan  Sun Hong
Affiliation:Gou Yinning1,2,Huang Nan1*,Sun Hong1
Abstract:
Keywords:Filtered cathodic vacuum arc source  C/C multilayer DLC films  Thermal stability
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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