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| 分布反馈染料激光器 | |
| 引用本文： | 韩全生.分布反馈染料激光器[J].中国激光,1983,10(2):121-123. |
| 作者姓名： | 韩全生 |
| 作者单位： | 中国科学院物理研究所 |
| 摘 要： | 一、引言传统的激光器是在增益介质之外加上特制的反射镜,让光波全部或部分地反馈,从而形成特定的模式振荡。分布反馈激光器是以均匀分散到整个增益介质中的分布反馈代替工作物质端面的反射镜。这种分布反馈通常是通过增益介质内部的折射率或增益的周期性调制来实现的。由于分布反馈结构本身具有很强的选频效应,无需在腔内加选频元件便可实现窄带操作。又由于在非线性效应的作用下,模式竞争的结果有可能完全抑制高次模。激光输出的波长决定于分布反馈结构的周期,改变调制周期 |
| 收稿时间： | 1982/5/7 |
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