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高击穿电压AlGaN/GaN HEMT电力开关器件研究进展
引用本文:张明兰,杨瑞霞,王晓亮,胡国新,高志.高击穿电压AlGaN/GaN HEMT电力开关器件研究进展[J].半导体技术,2010,35(5):417-422.
作者姓名:张明兰  杨瑞霞  王晓亮  胡国新  高志
作者单位:河北工业大学,信息工程学院,天津,300401;中国科学院,半导体研究所,北京,100083
基金项目:国家自然科学基金杰出青年科学基金 
摘    要:作为第三代宽禁带半导体材料的典型代表,GaN材料在各个应用领域的研究工作都受到了高度的重视。概述了基于AlGaN/GaN HEMT结构的新型高压、高频、低损耗电力开关器件的最新研究进展。从器件的结构特征入手,详细介绍了改善器件击穿特性的途径、高频开关特性的研究情况、Si衬底上AlGaN/GaN HEMT结构材料的生长、增强型器件的制备技术和功率集成电路的研究等几个国际上的热点问题。最后,对该项研究面临的问题及未来的发展趋势做了展望。

关 键 词:AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管  电力电子器件  化合物半导体材料  异质结构

Development of High Breakdown Voltage AlGaN/GaN HEMT for Power Switching Device
Zhang Minglan,Yang Ruixia,Wang Xiaoliang,Hu Guoxin,Gao Zhi.Development of High Breakdown Voltage AlGaN/GaN HEMT for Power Switching Device[J].Semiconductor Technology,2010,35(5):417-422.
Authors:Zhang Minglan  Yang Ruixia  Wang Xiaoliang  Hu Guoxin  Gao Zhi
Abstract:Acting as the representative of the third generation semiconductor materials,GaN becomes the focus of research all over the world.The development of AlGaN/GaN HEMT with high breakdown voltage,high frequency,and low loss is reviewed.Beginning with the introduction of the device structure,some critical problems hindering this research are discussed,including improvement of the breakdown characteristic,advantage in hig h frequency performance, growth of AlGaN/GaN heterostructures on Si substrate,fabrication of enhancement-mode AlGaN/GaN HEMT,and development of power integrated circuit.The possible application of high breakdown voltage AlGaN/GaN HEMT is predicted.
Keywords:AlGaN/GaN HEMT  power electronic device  compound semiconductor material  heterostructure
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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