电沉积Cr-SiC高耐磨复合镀层的研究 |
| |
引用本文: | 胡信国,寺岛庆一,高谷松文,峰岸知也,松永正久.电沉积Cr-SiC高耐磨复合镀层的研究[J].电镀与环保,1987(1). |
| |
作者姓名: | 胡信国 寺岛庆一 高谷松文 峰岸知也 松永正久 |
| |
作者单位: | 哈尔滨工业大学,日本千叶工业大学,日本千叶工业大学,日本千叶工业大学,日本千叶工业大学 |
| |
摘 要: | 从常规的六价铬电解液中,将不导电的SiC微粒(平均粒径2.0μm)与铬共沉积是十分困难的。只有当微粒在溶液申的含量达到400g/L以上,并添加微量稀土元素离子时,SiC微粒才能与Cr共沉积而形成Cr-SiC 复合镀层。Cr-SiC复合镀层的硬度比纯铬层有明显提高,其显微硬度可达Hv1400(纯铬层为HV910)。溶液中SiC微粒的数量、电流密度和溫度对SiC微粒的共沉积有很大影响。在六价铬镀液中,在各种SiC载荷量下,SiC的最大共沉积均发生在20 A/dm~2,40℃。当温度在50℃以上,电流密度35A/dm~2以上时得不到复合镀层。复合镀层的硬度随SiC含量的增加而提高,当SiC含量高于1.1%(重量),镀层变得疏松,脆性增加,因而硬度反而下降。本文还研究了Cr-SiC复合镀层的电子显微结构和耐磨性能。
|
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|