首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

纳米级掺杂超晶格的生长及其性质研究
引用本文:崔立奇,张文俊.纳米级掺杂超晶格的生长及其性质研究[J].微纳电子技术,1996(4).
作者姓名:崔立奇  张文俊
作者单位:电子部第13研究所
摘    要:评述了制备纳米级掺杂超晶格材料的MBE技术,给出了材料性能和器件研制结果。从微结构设计出发,研究了平面掺杂GaAs/Al(Ga)As超晶格结构二维电子气有关性质,实验研究取得了重要的进展。

关 键 词:分子束外延,平面掺杂,二维电子气,超晶格器件

Properties and Growing Investigation of the Nanometer-Size δ-Doped GaAs/Al(Ga) As Superlattices
Cui-Liqi, Zhang Wenjun.Properties and Growing Investigation of the Nanometer-Size δ-Doped GaAs/Al(Ga) As Superlattices[J].Micronanoelectronic Technology,1996(4).
Authors:Cui-Liqi  Zhang Wenjun
Abstract:This paper reviews the MBE techniques to produce nanometer-size δ-doping superlattices materias. The characteristics of the material and results of devices are given. The 2DEG Properties about the Plane-doping GaAs/Al (Ga) As superlattices are studied from the microstructure design, and the important progress in made about the experimental researches.
Keywords:MBE  Plane-doping  2DEG  Superlattice device
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号