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第VI族元素半导体纳米线的可控合成及其纳米电子学器件研究
引用本文:覃东欢,刘红梅,陶洪,兰林峰,陈军武,曹镛.第VI族元素半导体纳米线的可控合成及其纳米电子学器件研究[J].材料工程,2008(10).
作者姓名:覃东欢  刘红梅  陶洪  兰林峰  陈军武  曹镛
作者单位:华南理工大学特种功能材料及其制备新技术教育部重点实验室,广州510641
摘    要:采用化学液相反应,以亚硒酸或者原碲酸为原料,合成出尺寸均匀、高结晶度的硒、碲纳米线。高分辨电镜分析结果表明:合成的硒、碲纳米线均为三方晶单晶结构,生长方向沿其螺旋轴四001]方向生长。结合光刻、电子束刻蚀技术,分别翻备了硒、碲纳米线场效应晶体管器件(FET)。对器件测试的结果显示:硒和碲纳米线均为P型半导体,其相应的空穴迁移率分别为30.7,70cm^2V^-11s-1。这对新型纳米线电子学器件的开发应用具有重要意义。

关 键 词:VI族半导体  纳米线  场效应晶体管
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