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| 蒙特卡洛模拟方法在扫描电子显微学中的应用 | |
| 引用本文： | 丁泽军,李会民.蒙特卡洛模拟方法在扫描电子显微学中的应用[J].电子显微学报,2003,22(6):512-513. |
| 作者姓名： | 丁泽军 李会民 |
| 作者单位： | 中国科技大学中国科学院结构分析重点实验室,物理系,安徽,合肥,230026 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 (No .10 0 2 5 42 0 ,2 0 0 75 0 2 6 ,90 2 0 6 0 0 9) |
| 摘 要： | 用于模拟固体中电子散射轨迹的蒙特卡洛方法已经在电子探针、电子束微分析和电子束光刻等领域得到极其广阔的应用。扫描电子显微学中，借助于该方法我们可以从理论上系统地研究二次电子和背散射电子的信号产生和发射过程，从而理解各种衬度形成的物理机制。 |
| 关 键 词： | 蒙特卡洛模拟方法 扫描电子显微学 电子散射轨迹 电子探针 电子束微分析 电子束光刻 二次电子 背散射电子 物理机制 |
An application of Monte Carlo simulation method to SEM |
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| Abstract: | |
| Keywords: | |
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