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电解锰表面铈/硅烷复合钝化膜的制备及其耐腐蚀性能
引用本文:陈萌萌,李世佳,李利军,程昊.电解锰表面铈/硅烷复合钝化膜的制备及其耐腐蚀性能[J].腐蚀与防护,2023(2):25-32+81.
作者姓名:陈萌萌  李世佳  李利军  程昊
作者单位:1. 广西科技大学生物与化学工程学院广西糖资源绿色加工重点实验室;2. 蔗糖产业省部共建协同创新中心
基金项目:国家自然科学基金地区科学基金项目(31560466);;广西自然科学基金重点项目(2019GXNSFDA245025);;广西科技重大专项(桂科AA18118013);
摘    要:以硅烷偶联剂KH550和硝酸铈混合溶液为钝化液,通过浸泡法在电解锰表面成功制备了铈/硅烷复合钝化膜,并采用极化曲线、电化学阻抗谱、扫描电子显微图像(SEM)、衰减全反射傅里叶红外光谱(ATR-FTIR)及X射线光电子能谱(XPS)等对铈/硅烷复合钝化膜进行表征和分析。结果表明:电解锰腐蚀电位从钝化前的-1.364 V升高到钝化后的-1.225 V,腐蚀电流密度从3.58×10-5 A/cm2降低到1.91×10-6 A/cm2,极化电阻从461.18Ω·cm2升高到4 706Ω·cm2,电流阻碍效率达到了94.66%,所制备的钝化膜可显著提高电解锰的耐腐蚀性能。

关 键 词:电解锰  硅烷偶联剂KH550  硝酸铈  钝化膜  耐腐蚀性能
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