高分辨衍衬技术及其应用 |
| |
引用本文: | 刘安生.高分辨衍衬技术及其应用[J].电子显微学报,1982(1). |
| |
作者姓名: | 刘安生 |
| |
作者单位: | 有色金属研究总院 |
| |
摘 要: | 弱束技术和高阶明场技术是电子显微学中两种重要的高分辨成象技术(分辨率可达20A),它是研究缺陷(位错、位错环、层错、空位团等)的精细结构和微小沉淀物的有力工具。本文简要地叙述了这两种成象技术的原理和有关的电子衍射动力学分析。讨论了成象条件的各种参量和实验方法,介绍了这两种技术在氢区熔单晶硅和形变铝中的应用,最后还比较了这两种成象技术的特点及其适用条件。
|
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|