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| 进一步提高我国分子束外延技术的探讨 | |
| 引用本文： | 孔梅影,梁基本.进一步提高我国分子束外延技术的探讨[J].高技术通讯,1994,4(1):39-41. |
| 作者姓名： | 孔梅影 梁基本 |
| 作者单位： | 中国科学院半导体研究所 |
| 摘 要： | 进一步提高我国分子束外延技术的探讨孔梅影，梁基本，曾一平（中国科学院半导体研究所北京１０００８３）十多年来，我国的分子束外延（ＭＢＥ）技术从无到有，并不断改进提高，取得很大的进展。在中国科学院一些单位的共同努力下，我国先后发展了Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ、Ⅳ四种型号... |
| 关 键 词： | 分子束外延 中国 半导体材料 |
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