| 用VHF-PECVD技术研制大面积均匀硅基薄膜 |
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| 引用本文： | 薛俊明,侯国付,王凯杰,孙建,任慧志,张德坤,赵颖,耿新华.用VHF-PECVD技术研制大面积均匀硅基薄膜[J].太阳能学报,2007,28(11):1227-1232. |
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| 作者姓名： | 薛俊明 侯国付 王凯杰 孙建 任慧志 张德坤 赵颖 耿新华 |
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| 作者单位： | 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划);天津市科技发展基金;天津市自然科学基金 |
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| 摘 要： | 首先对电极表面VHF频段电场分布进行了详细的物理分析,认为当激发频率在VHF频段时驻波和损耗波对电场均匀性分布影响很大,而通过选择不同的电源馈入方式可减小其影响。采用中心馈入法,对馈线和电极的连接方式进行了仔细研究,然后就工作压力、沉积功率、流量等工作参数对均匀性、沉积速率、材料特性的影响进行了研究。结果表明:在本文所研究的范围内,适当提高工作气压可以提高薄膜的均匀性,而功率的变化对均匀性影响不大;在一定范围内提高工作气压和功率都可提高沉积速率;从薄膜的质量来说,气压低时较好,而功率则应适当选择。通过优化沉积条件,我们在普通浮法玻璃上制备出了面积为23×24cm~2,厚度不均匀性为±1.4%,最高沉积速率达10.5/s,光敏性最大为2.25×10~5的a-Si:H薄膜材料。
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| 关 键 词： | 硅基薄膜 大面积均匀性 电源馈入方式 |
| 文章编号： | 0254-0096（2007）11-1227-06 |
| 收稿时间： | 2006-06-19 |
| 修稿时间： | 2006年6月19日 |
LARGE AREA Si-BASED THIN FILMS DEPOSITED BY VHF-PECVD |
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| Xue Junming,Hou Guofu,Wang Kaijie,Sun Jian,Ren Huizhi,Zhang Dekun,Zhao Ying,Geng Xinhua.LARGE AREA Si-BASED THIN FILMS DEPOSITED BY VHF-PECVD[J].Acta Energiae Solaris Sinica,2007,28(11):1227-1232. |
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| Authors: | Xue Junming Hou Guofu Wang Kaijie Sun Jian Ren Huizhi Zhang Dekun Zhao Ying Geng Xinhua |
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| Keywords: | VHF-PECVD |
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