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低温纯Ar气中Tl2O分压对Tl2Ba2CaCu2O8超导薄膜相组成与性能的影响
引用本文:胡前库,于栋利,漆汉宏,孙雅馨,王天生,何巨龙,刘世民,李东春,田永君. 低温纯Ar气中Tl2O分压对Tl2Ba2CaCu2O8超导薄膜相组成与性能的影响[J]. 功能材料, 2004, 35(1): 66-68
作者姓名:胡前库  于栋利  漆汉宏  孙雅馨  王天生  何巨龙  刘世民  李东春  田永君
作者单位:燕山大学,材料科学与工程学院,河北,秦皇岛,066004;燕山大学,电气工程学院,河北,秦皇岛,066004
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(G1999064604)
摘    要:研究了高压Ar气氛中750℃低温下Tl2O分压对Tl2Ba2CaCu2O8超导薄膜相组成及其性能的影响。结果表明采用名义比为Tl1.9Ba2Ca2Cu3Oy的混合物作铊源时.生成的Tl2O分压达到最佳值。在该Tl2O分压下,获得了单相c取向的Tl2Ba2CaCu2O8超导薄膜,其Tc值达到108K;高于该分压时,薄膜中出现Tl2Ca3O6、Tl2O3。等杂相,导致膜面粗糙度增大和Tc值下降;低于最佳Tl2O分压.薄膜中生成了Tl2Ba2CaCu2O8和Tl2Ba2Ca2Cu3O10的共生相,导致Tc值下降;而Tl2O分压的进一步降低.则薄膜在铊化中不形成超导相。

关 键 词:超导薄膜  铊系  氩气  氧化铊
文章编号:1001-9731(2004)01-0066-03
修稿时间:2003-01-08

Effect of Tl2O partial pressure on component phases and properties of Tl2Ba2CaCu2O8 superconducting thin films fabricated at lower temperature in pure argon atmosphere
HU Qian-ku,YU Dong-li,QI Han-hong,SUN Ya-xin,WANG Tian-sheng,HE Ju-long,LIU Shi-min,LI Dong-chun,TIAN Yong-jun. Effect of Tl2O partial pressure on component phases and properties of Tl2Ba2CaCu2O8 superconducting thin films fabricated at lower temperature in pure argon atmosphere[J]. Journal of Functional Materials, 2004, 35(1): 66-68
Authors:HU Qian-ku  YU Dong-li  QI Han-hong  SUN Ya-xin  WANG Tian-sheng  HE Ju-long  LIU Shi-min  LI Dong-chun  TIAN Yong-jun
Affiliation:HU Qian-ku~1,YU Dong-li~1,QI Han-hong~2,SUN Ya-xin~1,WANG Tian-sheng~1,HE Ju-long~1,LIU Shi-min~1,LI Dong-chun~1,TIAN Yong-jun~1
Abstract:
Keywords:superconducting thin film  Tl-based  argon atmosphere  thallous oxide
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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