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Cu-Ni多层膜纳米压痕下微观变形结构的研究
引用本文:谭军,谢天生,张广平. Cu-Ni多层膜纳米压痕下微观变形结构的研究[J]. 电子显微学报, 2005, 24(4): 278-278
作者姓名:谭军  谢天生  张广平
作者单位:沈阳材料科学国家(联合)实验室,中国科学院金属研究所,辽宁,沈阳,110016
基金项目:中国科学院“百人计划”和国家重点基础研究发展计划(973)资助项目(No.2004CB619303)
摘    要:
金属多层膜具有化学、电子、磁学和力学等方面的许多优异性能,目前被广泛用于光学器件、磁记忆介质和作为互连体材料,尤其近年在微电子机械系统领域的应用引起了广泛注意。而纳米压痕技术是近几年发展起来的一项新的力学测试技术,测试精度高,通过测量压头在压入过程中的载荷-位移曲线,可获得材料的硬度和弹性模量等本征力学参量。该技术测试区域小,避免了样品的宏观缺陷对测试结果的影响,

关 键 词:纳米压痕技术 金属多层膜 变形结构 微电子机械系统 载荷-位移曲线 微观 测试技术 力学参量 光学器件

Microstructure observation beneath the nanoindentation on Cu-Ni multi-films
TAN Jun,XIE Tian-sheng,ZHANG Guang-ping. Microstructure observation beneath the nanoindentation on Cu-Ni multi-films[J]. Journal of Chinese Electron Microscopy Society, 2005, 24(4): 278-278
Authors:TAN Jun  XIE Tian-sheng  ZHANG Guang-ping
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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